Polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020

Do 30 stycznia br. można zgłaszać prace do polsko-chińskiego konkursu Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design”, organizowanego w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego, którego gospodarzem w tym roku jest Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim.

Konkurs adresowany jest do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim (Sino-Polish University Consortium - SPUC). Uczestnicy konkursu składają jedną pracę konkursową w wybranej przez siebie kategorii tematyczno-warsztatowej.

Tematem konkursu „Mind & Senses in Art & Design” są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji.

Prace konkursowe należy składać na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej, ul. Akademicka 7 w Gliwicach, do 30 stycznia 2020 r.

Szczegółowe informacje dotyczące konkursu, regulamin oraz formularz zgłoszeniowy dostępne są TUTAJ>>

Źródło: Politechnika Śląska