XXXIX Konfrontacje Poligraficzne „Dodatki do farb i lakierów”

W dniu 11 maja br., w sali konferencyjnej Fundacji im. Stefana Batorego w Warszawie, Stowarzyszenie Absolwentów Instytutu Poligrafii Politechniki Warszawskiej zorganizowało XXXIX Konfrontacje Poligraficzne pod tytułem „Dodatki do farb i lakierów”.

Spotkanie otworzył Andrzej Żurkiewicz, prezes Stowarzyszenia Absolwentów Instytutu Poligrafii Politechniki Warszawskiej. Chwilę później miała miejsce niespodziewana i bardzo miła uroczystość. Dr hab. inż. Stefan Jakucewicz, absolwent Instytutu Poligrafii, pracownik dydaktyczny i naukowy od 1974 roku oraz członek-założyciel Stowarzyszenia, otrzymał medal 100-lecia Odnowienia Tradycji Politechniki Warszawskiej za zasługi dla PW i Instytutu Poligrafii. Medal, z upoważnienia i w imieniu Dziekana WIP PW, prof. dr hab. inż. Andrzeja Kolasy, wręczył Prezes SAIP PW Andrzej Żurkiewicz.

Odznaczony dr hab. inż. Stefan Jakucewicz przejął funkcję moderatora spotkania. Przedstawił program Konfrontacji oraz poszczególnych autorów wystąpień, a następnie wygłosił referat wprowadzający w tematykę Konfrontacji „Dodatki do farb i lakierów. Zagadnienia ogólne”.

Odznaczony medalem 100-lecia Odnowienia Tradycji Politechniki Warszawskiej za zasługi dla PW i Instytutu Poligrafii dr hab. inż. Stefan Jakucewicz/fot. O. Rainka SAIP

Kolejnym referentem był mgr inż. Robert Szarkowski z firmy Böttcher Polska Sp. z o. o., który w obszernym wystąpieniu przedstawił „Nowoczesne dodatki do roztworów wodnych w systemach nawilżających maszyn offsetowych”.

Dwa następne referaty, „Aktualne środki pomocnicze” autorstwa mgr inż. Roberta Kuczery oraz „Wpływ dodatków do farb ciekłych GECKO na ich właściwości” autorstwa mgr inż. Mariusza Matuszewskiego, przedstawicieli hubergroup Polska Sp. z o.o., zostały wygłoszone przez zastępców, ze względu na obowiązkowy udział autorów na odbywających się w tym czasie targach FESPA w Niemczech.

Ostatnie wystąpienie pt. „Lakiery UV - diabeł tkwi w szczegółach” przedstawiła mgr inż. Katarzyna Łakomiec z firmy Sun Chemical Sp. z o.o. Omówiła ona konkretne przypadki prowadzące do wadliwej produkcji oraz możliwości ich usunięcia.

Prelegenci XXXIX Konfrontacji Poligraficznych/fot. O. Rainka SAIP

W spotkaniu wzięło udział ponad 80 uczestników, studentów i pracowników dydaktycznych Zakładu Technologii Poligraficznych IMiP PW oraz uczniów i nauczycieli warszawskich szkół średnich kształcących specjalistów w zakresie ogólnie pojętych mediów. Partnerem naukowym wydarzenia, tradycyjnie od 2004 roku, jest Instytut Poligrafii, a obecnie Zakład Technologii Poligraficznych Instytutu Mechaniki i Poligrafii WIP Politechniki Warszawskiej.

Źródło: SAIP PW