Lasery VCSEL to obecnie najmniejsze stosowane emitery światła koherentnego o wąskim spektrum emisyjnym, małym prądzie progowym, wysokiej szybkości modulacji i stosunkowo prostej technologii wytwarzania matryc.

Konsorcjum realizuje projekt opracowania technologii i uruchomienia produkcji materiałów półprzewodnikowych III-V na bazie arsenku galu (GaAs) i fosforku indu (InP), których jednym z zastosowań jest produkcja laserów VCSEL, jak również opracowania własnej technologii produkcji laserów VCSEL.

Przekrój poprzeczny przez struktutę VCSEL

Projekt badawczo-rozwojowy „Technologia produkcji kluczowych dla rozwoju fotoniki nowatorskich struktur epitaksjalnych oraz przyrządów laserujących VCSEL”, o wartości 16,3 mln zł, otrzymał dofinansowanie Narodowego Centrum Badań i Rozwoju w ramach konkursu „Ścieżka dla Mazowsza” (12,4 mln zł).

Z Politechniki Warszawskiej w pracach uczestniczy Zespół Badań Nanostruktur z Wydziału Fizyki: dr inż. Michał Świniarski, dr Iwona Pasternak i prof. dr hab. inż. Mariusz Zdrojek.

- Zespół z Wydziału Fizyki PW zajmuje się charakteryzacją materiałową warstw epitaksjalnych tworzących strukturę VCSEL. Wyniki uzyskane przez naukowców z PW stanowią materiał wejściowy dla procesów optymalizacji struktur. Dodatkowo zespół odpowiedzialny jest za processing prototypowych struktur VCSEL - mówi prof. dr hab. Mariusz Zdrojek. 

VCSEL znajdują coraz to nowe zastosowania, m.in. w: systemach transferu danych krótkiego zasięgu, w motoryzacji - w lidarowych urządzeniach wspomagających, samochodach autonomicznych, jak również w robotyce, nowoczesnym druku czy w produkcji dronów.